衍射光學(xué)元件DOE在半導(dǎo)體工業(yè)行業(yè)的應(yīng)用
衍射光學(xué)元件（DOE）在半導(dǎo)體工業(yè)的多種應(yīng)用中廣泛使用，主要工作在紫外和可見(jiàn)波段。高質(zhì)量的UV熔石英DOE在直寫(xiě)刻蝕、晶圓檢測(cè)中表現(xiàn)出優(yōu)秀的性能穩(wěn)定性。在這類(lèi)應(yīng)用中，DOE的角度精確度、熱穩(wěn)定性和高損傷閾值尤為重要。
晶圓檢測(cè)
在ITR2的驅(qū)動(dòng)下，半導(dǎo)體工業(yè)向進(jìn)一步的小型化發(fā)展，對(duì)晶圓的小尺度結(jié)構(gòu)的深紫外（DUV）光學(xué)檢測(cè)的需求持續(xù)增加。此類(lèi)系統(tǒng)需要采用勻化器（針對(duì)低相干激光）或光束整形器（針對(duì)單模高相干激光）將光強(qiáng)分布整形。同時(shí)，通常采用大角度（>70度）略入射輻照，要求高度細(xì)致地設(shè)計(jì)的整形光學(xué)系統(tǒng)，確保Waver表面的照明均勻性。
針對(duì)此類(lèi)應(yīng)用，提供專(zhuān)門(mén)的晶圓檢測(cè)用DOE，包括訂制的光束整形器以及在高略入射角度時(shí)保證均勻照明的光學(xué)系統(tǒng)。
晶圓檢測(cè)
在ITR2的驅(qū)動(dòng)下，半導(dǎo)體工業(yè)向進(jìn)一步的小型化發(fā)展，對(duì)晶圓的小尺度結(jié)構(gòu)的深紫外（DUV）光學(xué)檢測(cè)的需求持續(xù)增加。此類(lèi)系統(tǒng)需要采用勻化器（針對(duì)低相干激光）或光束整形器（針對(duì)單模高相干激光）將光強(qiáng)分布整形。同時(shí)，通常采用大角度（>70度）略入射輻照，要求高度細(xì)致地設(shè)計(jì)的整形光學(xué)系統(tǒng)，確保Waver表面的照明均勻性。
針對(duì)此類(lèi)應(yīng)用，提供專(zhuān)門(mén)的晶圓檢測(cè)用DOE，包括訂制的光束整形器以及在高略入射角度時(shí)保證均勻照明的光學(xué)系統(tǒng)。
圖4.1 半導(dǎo)體晶圓檢測(cè)
?相關(guān)DOE產(chǎn)品：光束整形器，準(zhǔn)直光束整形器，勻化器
激光直接刻寫(xiě)
多種半導(dǎo)體工業(yè)的應(yīng)用要求并行多線刻寫(xiě)以實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)率。這些應(yīng)用包括：平板顯示掩膜刻寫(xiě)，太陽(yáng)能電池板電極刻寫(xiě)及其它多種多線曝光制程。針對(duì)這些應(yīng)用，高質(zhì)量一維分束DOE提供可靠穩(wěn)定的角度和間距精度、能量分配均一性，確保線厚統(tǒng)一性，提高產(chǎn)率。
激光直接刻寫(xiě)
多種半導(dǎo)體工業(yè)的應(yīng)用要求并行多線刻寫(xiě)以實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)率。這些應(yīng)用包括：平板顯示掩膜刻寫(xiě)，太陽(yáng)能電池板電極刻寫(xiě)及其它多種多線曝光制程。針對(duì)這些應(yīng)用，高質(zhì)量一維分束DOE提供可靠穩(wěn)定的角度和間距精度、能量分配均一性，確保線厚統(tǒng)一性，提高產(chǎn)率。
圖4.2 一維分束器
?相關(guān)DOE產(chǎn)品：一維分束器。
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