膜厚量測儀FE-300的特點
*1 細規格請咨詢
- 測試范圍涵蓋薄膜到厚膜
- 基于絕對反射率光譜分析膜厚
- 小型?低價,精度高
- 無復雜設定,操作簡單,短時間內即可上手
- 外觀新穎,操作性提高
- 非線性*小二乘法,實現光學常數解析(n:折射率、k:消光系數)
對應膜種
○ 多層膜 ○ 折射率傾斜
○ 非干涉膜 ○ 超晶格結構
用途
○ 光學薄膜(ARfilm、ITO等)
○ FPD相關(ITO、PI、PC、CF等)
測量項目
多層膜厚解析
絕對反射率測量
光學常數解析(n:折射率k:消光系數)
測量實例

式樣
| 型號 | FE-300V | FE-300UV | FE-300NIR *1 | |
| 本體 | 標準型 | 薄膜型 | 厚膜型 | 厚膜型(高分辨率) |
| 樣品尺寸 | *大 8 寸晶圓( 厚度 5 mm ) | |||
| 測量膜厚范圍(nd值) | 100 nm ~ 40 μm | 10 nm ~ 20 μm | 3 μm ~ 300 μm | 15 μm ~ 1.5 mm |
| 測量波長范圍 | 450 nm ~ 780 nm | 300 nm ~ 800 nm | 900 nm ~ 1600 nm | 1470 nm ~ 1600 nm |
| 測量精度 | ± 0.2 nm 以內 *2 | ± 0.2 nm 以內 *2 | - | - |
| 重復精度 | 0.1 nm 以內 *3 | 0.1 nm 以內 *3 | - | - |
| 測量時間 | 0.1 s ~ 10 s 以內 | |||
| 光斑直徑 | 約 φ 3 mm | |||
| 光源 | 鹵素燈 | 氙燈與鹵素燈 | 鹵素燈 | 鹵素燈 |
| 通訊接口 | USB | |||
| 尺寸,重量 | 280(W) × 570(D) × 350(H) mm、 約 24 kg | |||
| 軟件功能 | ||||
| 標準 | 波峰波谷解析、FFT解析、*適化法解析、*小二乗法解析 | |||
| 選配功能 | 材料評價軟件、薄膜模型解析軟件、標準片解析 | |||
*2 相對于VLSI 公司產膜厚標準(100nm SiO2/Si)的膜厚保證書記載的測量保證值范圍
*3 VLSI 公司產膜厚標準(100nm SiO2/Si)的同一點反復測量時的擴張不確定度(包括因子2.1)





































































































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